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日立IM4000Plus 离...
IM4000PLUS是支持断面研磨和平面研磨（Flat Milling®*1）的混合式离子研磨仪器。借此，可以用于适用于各种诸如对样品内部结构观察和各类分析等，制备样品所设计。
ELMO 辉光放电清洗系统
用于TEM铜网具有特定气体气氛的辉光放电清洁系统，该系统将改变TEM支撑膜和网格的表面特性，以优化溶液的吸附。可用于亲水性或疏水性，负电荷或正电荷等处理。
IM4000PLUS是支持断面研磨和平面研磨（Flat Milling®*1）的混合式离子研磨仪器。借此，可以用于适用于各种诸如对样品内部结构观察和各类分析等，制备样品所设计。
用于TEM铜网具有特定气体气氛的辉光放电清洁系统，该系统将改变TEM支撑膜和网格的表面特性，以优化溶液的吸附。可用于亲水性或疏水性，负电荷或正电荷等处理。