品牌中心
制样设备
G16-MC大靶位磁控离子溅射仪
大靶位磁控溅射源，溅射效率更高，溅射范围更大，更均匀，可实现样品自动旋转，一键操作，全智能化操作。
GCV-1000脉冲喷碳仪
自主研发生产制造新一代脉冲自动喷碳仪，担当样品制备仪器的新一代天花板。一键操作，全数字化人机界面。
GMC-1000磁控离子溅射仪
自主研发生产制造新一代磁控离子溅射仪，担当样品制备仪器的新一代天花板。一键操作，全数字化人机界面。
日立离子研磨仪 IM4000II
日立离子研磨仪标准机型IM4000Ⅱ能够进行截面研磨和平面研磨。还可通过低温控制及真空转移等各种选配功能，针对不同样品进行截面研磨。
上海金相ZPG-300振动抛光机
振动抛光是一种最大限度减少试样磨损的抛光技术，适用于在各种材料上制备高质量的抛光表面，包括电子背散射衍射分析 (EBSD) 应用。ZPG-300型振动抛光机采用弹簧板及磁吸合电机来产生左右方向的振动，但是连接抛光盘与振体之间的弹簧板是有角度的，因而使得试样在抛光盘内作圆周运动。
上海金相YMP-2金相试样磨抛机
ＹMP-2型金相试样磨抛机是采用单片机的研磨抛光设备，双盘独立控制，机身采用ABS材料一体成形，外形新颖美观，防腐蚀、经久耐用；牢固的大型支撑底盘设计确保了精密的回转平衡度
Safematic ccu-01...
CCU-010是一种紧凑型全自动溅射镀膜机和碳镀膜机，使用非常简单。由于独特的插件概念，该设备很容易配置溅射或蒸发，只需更换工艺头。涂层前后可进行等离子处理。模块化设计使得避免金属和碳沉积之间的交叉污染变得容易。
Safematic ccu-01...
CCU-010 LV 低压紧凑型真空镀膜系统专为精细真空应用而设计。模块化概念允许随后转换为高真空装置。
PELCO辉光放电清洗系统
提供各种型号的辉光放电单元。一种简单、独立的辉光放电系统，通常用于碳涂层透射电镜网格的疏水性到亲水性转换，从而轻松铺展水性悬浮液。它还允许对试样表面进行深度清洁或离子蚀刻，对于清除污染膜或沉积物非常有用。等离子体的极性可以改变，以进行表面处理或金属试样的表面蚀刻。EasyGlow放电清洁系统是一种紧凑，独立，易于使用的放电清洁系统，主要设计用于TEM支撑膜的表面改性。该系统支持负电荷或正电荷的亲水性和疏水性处理，并包括两个单独控制的进气口。
司特尔TenuPol电解抛光仪
TenuPol-5 用于对试样进行自动电解变薄，以在透射电镜中进行检查。通过使用内置扫描功能和其他增强功能，可以轻松设置新材料的参数，并将这些参数存储在方法数据库中。TenuPol-5 中包含两个单独单元，即控制单元和抛光单元或变薄单元。
司特尔LectroPol电解抛光...
LectroPol-5 专用于对金相试样进行自动化电解抛光和蚀刻。扫描功能（用于方便地测定参数）、内置的安全功能以及数据库（其中包含适用于各种材料的方法）可缩短抛光时间和实现最高可再生产性。
Agar 自动喷碳仪
Agar 全自动喷碳仪为英国进口设备，操作简单，适用于扫描电镜样品制备等。喷碳仪使用高纯度碳棒，更容易实现在高倍下得到高质量的镀膜效果，以便对样品进行形貌观察及进行能谱EDS或EBSD分析。