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制样设备
日立ArBlade 5000离子...
ArBlade 5000是日立离子研磨仪的高性能机型。它实现了超高速截面研磨。 高效率截面加工功能，使电镜截面观察时样品加工更简单。
Agar 108型高真空离子溅射...
Agar高真空离子溅射仪为场发射扫描电镜高分辨率成像镀膜困难样品时遇到的问题提供了真正的解决方案,在超高真空度下，更小的金属颗粒，无需担心对样品形貌的影响。
Agar108型离子溅射仪
Agar Scientific系列真空镀膜机为用户提供了广泛的选择，以满足支持SEM和TEM应用所需的所有镀膜要求。这些紧凑的台式镀膜单元按照高规格制造，并采用了微处理器技术。
日立IM4000Plus 离子研...
IM4000PLUS是支持断面研磨和平面研磨（Flat Milling®*1）的混合式离子研磨仪器。借此，可以用于适用于各种诸如对样品内部结构观察和各类分析等，制备样品所设计。
ELMO 辉光放电清洗系统
用于TEM铜网具有特定气体气氛的辉光放电清洁系统，该系统将改变TEM支撑膜和网格的表面特性，以优化溶液的吸附。可用于亲水性或疏水性，负电荷或正电荷等处理。