日立高分辨冷场发射扫描电镜SU9000是世界上最高二次电子分辨率(0.4nm@30kV)和STEM分辨率(0.34nm@30kV)的扫描电镜.它采取了独特的真空系统和电子光学系统,不仅分辨率性能优异,而且作为冷场发射扫描电镜甚至不需要传统意义上的Flashing操作,可以快速稳定的进行超高分辨成像.
用于常规材料表征的小型分析扫描电子显微镜,微米级的研究和质量控制应用。
自主研发生产制造新一代磁控离子溅射仪,担当样品制备仪器的新一代天花板。一键操作,全数字化人机界面。
IM4000PLUS是支持断面研磨和平面研磨(Flat Milling®*1)的混合式离子研磨仪器。借此,可以用于适用于各种诸如对样品内部结构观察和各类分析等,制备样品所设计。
提供各种型号的辉光放电单元。一种简单、独立的辉光放电系统,通常用于碳涂层透射电镜网格的疏水性到亲水性转换,从而轻松铺展水性悬浮液。它还允许对试样表面进行深度清洁或离子蚀刻,对于清除污染膜或沉积物非常有用。等离子体的极性可以改变,以进行表面处理或金属试样的表面蚀刻。EasyGlow放电清洁系统是一种紧凑,独立,易于使用的放电清洁系统,主要设计用于TEM支撑膜的表面改性。该系统支持负电荷或正电荷的亲水性和疏水性处理,并包括两个单独控制的进气口。
Agar高真空离子溅射仪为场发射扫描电镜高分辨率成像镀膜困难样品时遇到的问题提供了真正的解决方案,在超高真空度下,更小的金属颗粒,无需担心对样品形貌的影响。
我们为EBIC成像和分析提供完整的解决方案。我们可以提供定制软件包,其中包括在SEM上进行EBIC测量所需的一切。
FT-S微力传感探针的精巧设计使得FT-NMT03纳米力学性能测试系统能够在SEM的最佳分析工作距离下测试。另外,其紧凑的设计能够在力学测试的同时进行离子束的沉积和切割。这可用于在拉伸测试中样品与微力传感探针针尖的粘合和移除。
TenuPol-5 用于对试样进行自动电解变薄,以在透射电镜中进行检查。通过使用内置扫描功能和其他增强功能,可以轻松设置新材料的参数,并将这些参数存储在方法数据库中。TenuPol-5 中包含两个单独单元,即控制单元和抛光单元或变薄单元。
三脚架抛光机 590 可用于制备用于 SEM 和 TEM 横截面分析的样品。