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Microhezao HDT系列圆形溅射靶材
溅射靶材通常作为离子溅射、磁控溅射、偏压溅射或射频溅射系统在适当的工艺条件下溅射在基板上形成各种功能膜材料的溅射源，更换不同材质的靶材，可得到不同类型的膜特性。高纯度HDT系列靶材可以与各种台式溅射仪进行兼容，离子溅射仪用于在非导电样品上溅射一层纳米级的导电涂层，以便扫描电子显微镜对这些样品进行研究。
型 号：HDT / 859
品 牌：Microhezao
产 地：上海
行业应用：半导体芯片、光电器件、传感器、OLED等不同行业。
产品特点：HDT系列圆形溅射靶材是一种专为离子溅射仪制作的靶材，又高纯高密度材料制作。可满足大多数的离子溅射仪进行使用。HDT系列靶材有多种材质，多种尺寸可供您选择，如下，金、铂、钯、银、铜，纯度可达99.99%.
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产品详情：
HDT系列圆形溅射靶材是一种专为离子溅射仪制作的靶材，又高纯高密度材料制作。可满足大多数的离子溅射仪进行使用。
高纯度HDT系列靶材可以与各种台式溅射仪进行兼容，离子溅射仪用于在非导电样品上溅射一层纳米级的导电涂层，以便扫描电子显微镜对这些样品进行研究。
由于贵金属纯度高，需要多个精炼步骤，靶才性对昂贵，为了避免成像货EDS分析中的任何影响，需要99.99%的高纯度靶材。
溅射靶材通常作为离子溅射、磁控溅射、偏压溅射或射频溅射系统在适当的工艺条件下溅射在基板上形成各种功能膜材料的溅射源，更换不同材质的靶材，可得到不同类型的膜特性。
HDT系列靶材有多种材质，多种尺寸可供您选择，如下，金、铂、钯、银、铜，纯度可达99.99%.
技术参数：
HDT系列材质：Au/Pt/Pd/Ag/Cu/Ni/Al
HDT系列尺寸：63/57/54/50/24/19mm
HDT系列厚度：0.1/0.2/0.3/0.4/0.5mm
HDT系列纯度：99.999%或以上
适用品牌：Microhezao Agar Bal-Tec Denton Cressington Edwards Gatan Hitachi Jeol Leica Quorum Hezaolab
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