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产品描述
PELCO® 三脚架抛光机™ 590 可用于制备用于透射电镜和扫描电镜横截面分析的样品。
对于TEM样品，该技术已成功用于将离子铣削时间限制在15分钟以内，并且在某些情况下，消除了对离子铣削的需求。虽然该技术设计用于制备半导体横截面，但它已被用于从陶瓷，复合材料，金属和地质样品等各种材料中制备明视图和横截面样品。
特点与优势
在透射电镜水平上进行精确的横截面
可重复和快速地生产透射电镜样品
将离子铣削时间缩短至几分钟，而不是几小时
在整个试样上产生大片薄片
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