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GCV-1000脉冲喷碳仪
自主研发生产制造新一代脉冲自动喷碳仪，担当样品制备仪器的新一代天花板。一键操作，全数字化人机界面。
型 号：GCV-1000 / 1506
品 牌：Hezao Lab
产 地：上海
采用结构更为紧凑的结构设计，对您的实验室的空间不足，占用更小的使用空间。 采用高性能高可靠的MENS架构，让您的使用更为的可靠，简单，减少您的学习时间。 采用高稳定的真空控制结构设计，将真空条件的达成控制到1min内，将大大提高您的使用频次及效率。
GCV-1000有助于您再进行材料科学或生物学实验时获得高质量的显微结构表征,高精度的纳米涂层为纳米级别，可满足现代分析实验要求。
- 产品特点
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产品描述：
CV系列自动脉冲热蒸发镀碳仪是我司推出专为扫描电镜所需的一款制样仪器。该仪器为全闭环真空设计配有全量程皮拉尼真空计等多个传感器实时监控运行状态，保证仪器安全稳定运行。自动脉冲热蒸发镀碳仪采用高性能旋叶真空泵快速获得＜1Pa的真空环境，高精度的脉冲电源采用恒压控制来保证高精细的膜层质量。同时W型平面热蒸发碳丝具备除气功能，脉冲式蒸发减少对试样的热损伤效应；高性能的直流低压电极可实现多种碳绳的选择（0.8、1.2、2.4、碳棒等），高精度的纳米涂层为纳米级别，可满足现代分析实验要求。
产品特点：
• 外观美观，简洁大方
• 操作简紧凑单，使用者无需专业知识和专业培训
• 可直接放置12个标准钉型样品台，无需工作人员介入，节省人力和时间
• 采用ARM架构，全自动控制，控制精度高，操作简单
• 低电压，稳定真空环境，可适配多种规格碳材料0.8、1.2、2.4及碳棒等
• 溅射颗粒可达纳米级别，溅射颗粒＜5nm制备薄膜致密，适合高分辨SEM使用
• 采用低压脉冲技术，利用W型平面热蒸发减少温度的变化，适用于温度敏感样品
• 配有多个传感器实时监控运行状态，保证仪器使用安全
• 长期运行，稳定可靠，无需特殊维护
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大靶位磁控溅射源，溅射效率更高，溅射范围更大，更均匀，可实现样品自动旋转，一键操作，全智能化操作。
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Safematic ccu-010hv高真空镀膜一体机
CCU-010是一种紧凑型全自动溅射镀膜机和碳镀膜机，使用非常简单。由于独特的插件概念，该设备很容易配置溅射或蒸发，只需更换工艺头。涂层前后可进行等离子处理。模块化设计使得避免金属和碳沉积之间的交叉污染变得容易。
Safematic ccu-010低真空离子溅射仪
CCU-010 LV 低压紧凑型真空镀膜系统专为精细真空应用而设计。模块化概念允许随后转换为高真空装置。
Agar 108型高真空离子溅射仪
Agar高真空离子溅射仪为场发射扫描电镜高分辨率成像镀膜困难样品时遇到的问题提供了真正的解决方案,在超高真空度下，更小的金属颗粒，无需担心对样品形貌的影响。
Agar108型离子溅射仪
Agar Scientific系列真空镀膜机为用户提供了广泛的选择，以满足支持SEM和TEM应用所需的所有镀膜要求。这些紧凑的台式镀膜单元按照高规格制造，并采用了微处理器技术。