G16-MC大靶位磁控离子溅射仪
大靶位磁控溅射源,溅射效率更高,溅射范围更大,更均匀,可实现样品自动旋转,一键操作,全智能化操作。
型 号:G16-MC / 36
品 牌:Hezao Lab
产 地:上海
采用不锈钢真空设计,真空状态更优,效率更高,配置大抽速旋叶真空泵,配置自动样品旋转台,样品在溅射过程中,膜层更均匀。
GMC-1000有助于您再进行材料科学或生物学实验时获得高质量的显微结构表征。
- 产品特点
- 技术文章
- 相关产品
产品描述:
HezaoLab磁控离子溅射仪专为扫描电镜样品制备所设计,针对不导电样品的荷电效应提供了真正的解决方案。
为增加扫描电镜样品的导电性,可以在样品表面镀一层黄金或铂金薄膜,为了不掩盖样品的显微结构表征,我们采用最新的低电压磁控技术,将在样品表面形成颗粒细小,连续的导电薄膜。
低电压磁控技术,将大幅减少等离子体对样品的热辐射和离子损伤,特别适合高分辨率和对温度敏感的材料,以最大限度展现样品的显微结构表征。
采用数字化触摸屏操作,一键操作,提供颗粒直接达5nm一下的薄膜,自动化溅射镀膜工艺,具有重复精度高,可再相同条件下实现可重现的结果。
只需要按下【启动】即可让您充满信心的完成常规样品制备,简单可靠的工作流程和便捷的操作让您能够专注于电镜样品制备本身,减少学习和培训他人的使用方法的时间。
- 离子溅射仪 2024/07/07
- 扫描电镜中的TKD - 针对透射菊池衍射(t-EBSD) 2023/09/10
- 喷碳仪用于扫描电子显微镜的用途 2023/03/19
- 离子研磨仪制备FIB样品 2022/10/18
- 主动减振和被动隔振的区别 2022/07/06
- 如何选择被动隔振和主动隔振系统 2022/06/04
- 扫描电子显微镜在法医取证中的应用 2022/04/28
- SEM中纳米材料表征的无与伦比的解决方案 2022/04/25
- 改进的溅射技术有助于减少钨薄膜中的应力 2022/04/23
- 日立离子研磨系统介绍-IM4000ll 2022/04/15