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Agar 108型高真空离子溅射仪
Agar高真空离子溅射仪为场发射扫描电镜高分辨率成像镀膜困难样品时遇到的问题提供了真正的解决方案,在超高真空度下，更小的金属颗粒，无需担心对样品形貌的影响。
型 号：B7234 / 2092
品 牌：Agar scientific
产 地：英国
应用行业：高分子材料，半导体制造，晶圆生产，微电子加工等。
仪器特点:
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产品描述
Agar高分辨率溅射镀膜机为FEG SEM成像镀膜困难样品时遇到的问题提供了真正的解决方案。为了最大限度地减少晶粒尺寸的影响，涂布机可以完全控制厚度和沉积条件。涡轮分子式阻力泵为溅射非贵金属提供了所需的高真空，同时具有出色的气体处理特性。磁控溅射头具有溅射铬所需的高电流能力，标配用于目标调节的源快门。
带倾斜度的旋转行星载物台可确保高度轮廓的样品均匀涂覆。这确保了可以应用最小的涂层厚度，在不影响精细试样细节的情况下提供导电性。双高度150mm直径的工作腔室可轻松调节工作距离。
集成的端接膜厚度监测仪允许对涂层厚度进行严格控制，并针对重复样品进行再现。
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