G20-MC双靶位磁控离子溅射仪
自主研发生产制造双靶位磁控离子溅射仪,采用尖端技术担当样品制备仪器的新一代天花板。
型 号:G20-MC / 37
品 牌:Hezao Lab
产 地:上海
采用尖端双靶位共溅射及多层单溅射技术,标配旋转倾斜模块,可实现多角度,多方位膜层覆盖,消除荷电效应,提高样品衬度,以追求更高分辨率,以获得更真实的样品形貌及表征。
G20-MC有助于您再进行材料科学或生物学实验时获得高质量的显微结构表征。
- 产品特点
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产品描述:
HezaoLab磁控离子溅射仪专为扫描电镜样品制备所设计,针对不导电样品的荷电效应提供了真正的解决方案。
为增加扫描电镜样品的导电性,可以在样品表面镀一层黄金或铂金薄膜,为了不掩盖样品的显微结构表征,我们采用最新的低电压磁控技术,将在样品表面形成颗粒细小,连续的导电薄膜。
低电压磁控技术,将大幅减少等离子体对样品的热辐射和离子损伤,特别适合高分辨率和对温度敏感的材料,以最大限度展现样品的显微结构表征。
采用数字化触摸屏操作,一键操作,提供颗粒直接达5nm一下的薄膜,自动化溅射镀膜工艺,具有重复精度高,可再相同条件下实现可重现的结果。
只需要按下【启动】即可让您充满信心的完成常规样品制备,简单可靠的工作流程和便捷的操作让您能够专注于电镜样品制备本身,减少学习和培训他人的使用方法的时间。
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